300 Nm3/h 높은 순수성 질소 가스 정화 체계는을 위한 장을 냉각 압연합니다
| Capacity: | 100-5000nm3/h | Purity: | 99.9995%,99.9999% |
| Dew point: | -70 ℃ | Application: | 콜드 롤링 시트/스틸, 아연 도금 라인, 쿠퍼 생산 |
| Purity: | 99.9995%, 99.9999% | Dew Point: | -70C |
| Oxygen Content: | <=3ppm | Application: | 냉간 압연 시트, 아연 도금 라인 |
| Working Pressure: | 5-6 바 | Oxygen Content: | 3ppm 이하 |
| High Light: | 99.9995% 고순도 질소 출력,300 Nm3/h 냉연강판 생산 능력,수소 불포함 안정적인 가스 정제 |
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300 Nm3/h 고순도 질소 가스 정화 시스템
설명:
고순도 질소
압력 ≤5~6bar
이슬점 (정상적인 온도) ≤-70도
산소 함량 ≤3ppm
수소 함량:없다
질소 함량:5000Nm3/h
원칙:
O2+C·CO2
산소와 탄소를 채취하면 탄산화탄소가 촉매 기능 아래서
산소를 제거하는 장치로 산소를 제거하는 고효율 탄소 탈산화 물질이 가득
고 순수 질소를 얻기 위해 드라이어 탄소를 흡수 후 불순물. 탄소 디옥시던트는
산소를 제거하는 동안 팔라디움 등 고귀 금속은 촉매의 열쇠입니다
특정 온도에서 적절한 산소 함량을
특징:
(1) 정화 질소는 수소를 포함하지 않습니다, 그것은 엄격하게 제한되는 이러한 장소에 매우 적합합니다.
가스용
(2) 간단하게 구조, 탄소 디옥시던트는 소비 보충 유형, 용량은 같은 것입니다
새로운 장비
(3) 가스 지수 안정, 더 낮은 불순물
(4) 자동 시스템, 대안으로, 근무하는 사람이 없이.
(5) 광범위하게 적용, 그것은 원료 산소 함량, 압력 순도 지수에 영향을 미치지 않습니다
기술 지수:
정상 질소
압력: 5-8bar
이슬점 (ASM):≤-40도
산소 함량: ≤ 1%
용량:55000Nm3/h
적용:
1금속공학: 굽기 보호, 집적 보호, 오븐 세척 및 불기 등
금속 가열 처리, 분자 금속공학, 자기 물질, 구리 공정,
금속망, 진열선, 반도체 등
2화학 및 신소재 산업: 화학 물질 가스, 파이프 라인 불기, 가스 대체,
가스 보호, 제품 운송 등 화학, 유레탄 탄력 섬유, 고무,
플라스틱, 타이어, 폴리우레탄, 생물 기술, 중간 물질 등
3전자 산업: 전자물질의 캡슐화, 집적화, 연소, 산소 제거, 저장용
제품. 피크 용접, 순환 용접, 크리스탈, 피에조 전기, 전자
포르셀라인, 전자 구리 테이프, 배터리, 전자 합금 물질 등